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关于我们
原磊纳米成立于2018年9月，由具有近20年半导体设备、工艺研发经验的专业团队创建，致力于成为高端国产半导体设备供应商。公司目前的主要产品是研发和量产型ALD设备。
2019年12月，由南京原磊材料科技自主研发的第一台ALD设备顺利开发完成并通过验收。
公司目前员工约70人，其中技术人员占75%，研究生以上学历15人，授权专利40余项。徐州子公司于2021年11月成立，拥有行业内最高标准的装配、测试和研发中心。公司致力于成为拥有设备、材料、工艺全链条核心技术的半导体领域领先企业，作为革新者改变国内半导体设备领域格局，以领先的薄膜设备设计理念为基础，强大的半导体工艺和材料能力为驱动，通过自主创新研发先进集成电路设备，让中国不再受制于人，打造一个纯国产先进半导体设备的高端民族品牌。
原磊材料科技始终秉承“专业、创新、诚信、责任”的宗旨，为半导体行业提供最满意的，最全面的ALD/ALE应用解决方案。
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GRACE MX系列
GRACE-MX 是大发云系统破解大小单双自主研发的第一代多层平板式原子层薄膜沉积（ALD）系统。采用独特的模块设计，通过对腔体和前驱源进气系统的优化，实现了超高的工艺稳定性，并支持全方位的工艺开发，包括在集成电路、微机电系统、光学、化学和工业领域等的应用，且所开发的材料覆盖众多氧化物（例如SiO2/SnO2/HfO2/Al2O3等），可容纳样品尺寸最大300mm*300mm，针对不同领域的研发，最大可容纳样品尺寸及层数可根据客户需求量身定制。
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- P R O D U C T S
产品展示
公司主要业务：原子层沉积（ALD）和原子层刻蚀（ALE)设备的研发、生产和销售；针对不同客户的需求提供一站式的材料工艺解决方案，并提供定制化的材料、器件光电学性能的优化和表征
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原磊2021年年会盛典圆满结束
2022年1月15日，原磊大家庭携政府领导、合作客户、行业专家、投资机构齐聚一堂，在徐州隆重举行了一场红红火火的年会盛宴，让我们再次走进这场盛大的年会，回顾那些精彩的瞬间。内容形式丰富多彩，凝聚着中华传统文化精华。
精彩回顾
尽管当地气温较低，但参会人员热情高涨，大家在主持人的引领下陆续就座。
下午16：30，晚宴的序幕正式拉开。
紧接着，由原磊创始人郑锦先生带来诚挚发言和美好祝愿，激昂又暖心。
在郑总的带领下，现场嘉宾和全体员工举杯共饮，为新年送上美好的祝福。
晚宴上的小伙伴各个都是神采奕奕，谈笑风生，很是开心！
接下来就是今年重磅抽奖环节。现场尖叫声跌宕起伏，今年更是还有幸运奖，特别嘉宾奖等，保证每个原磊小伙伴都能满载而归!
整场晚宴最佳得奖幸运儿还属我们机械部的陶佳月！郑总亲自颁发了一等奖并合影留念！
最high的部分来了~我们徐州的小伙伴大展歌喉，一首接一首，属实让大家惊艳了一把！
当然了，虎年到，虎虎生威，可不能忘了我们的虎年小伙伴们~这不，立马为我们本命年的小伙伴献上丰厚礼品。
还有一批人，他们是原磊的中坚力量。一直陪伴原磊，原磊的每一次成长都离不开他们的辛勤付出；他们用专业的角度、独到的管理，让原磊更具生命力。
企业有团结奋进的中坚力量，有踏实勤奋的员工榜样，有温度有态度的老板！相信原磊的明天会更美好！
徐州半导体薄膜沉积技术研讨会圆满落幕
1月14日，原磊纳米材料（徐州）有限公司（以下简称“原磊”）在徐州举办的“徐州半导体薄膜沉积技术研讨会“圆满落下帷幕。本次会议旨在推动半导体真空镀膜设备的国产化进程和加快我国半导体技术的发展。会议以半导体薄膜沉积技术为切入点，深度交流了半导体及纳米光学器件产业内薄膜沉积工艺的最新成果，并探讨了薄膜沉积技术的未来发展方向。徐州经济技术开发区领导及众多半导体薄膜沉积领域的专家和学者与会。
在研讨会开幕式上，原磊创始人兼总经理郑锦先生与业内同仁分享了原磊一路走来的创业历程，表达了对徐州经开区政府人员的感谢，并向半导体领域的业内同仁致敬。
随后，徐州经开区党工委副书记、管委会主任臧晓鹏先生在致辞时表示，徐州经开区正在紧跟国家战略布局，瞄准材料、装备、先进封测和第三代半导体等领域精准发力，致力于打造淮海经济圈的半导体产业高地。臧主任对原磊在经开区顺利落地表示祝贺，并祝愿原磊在今后的征程中开拓进取，勇攀半导体产业高峰。
接下来，求是缘半导体联盟陈荣玲理事长在会上高瞻远瞩地指出了在整体“缺芯”的产业形势下，半导体行业同仁们应如何应对，以及对原磊作为国产高端半导体薄膜沉积设备制造商的殷切期待。
在接下来的研讨会上，产学研界的专家们各自分享了他们在薄膜沉积技术应用上的最新进展。
复旦大学微电子国家重点实验室的丁士进教授讲解了原子层沉积技术在集成电路先进制程中的技术融合与应用。
南智先进光电集成技术研究院的王前进博士讲述了如何以光电集成公共技术平台建设促进光电芯片成果转化、产业集聚的策略和ALD技术在未来该领域的应用。
源展材料科技有限公司副总裁娄夏冰博士深入浅出地讲解了ALD前驱源的发展历程、当前状况和未来趋势。
华中科技大学武汉光电国家实验室的曾进炜教授讲解了原子层沉积技术在纳米光学器件方面的应用和前景。
重庆大学南京研究院副院长牟笑静教授分享了压电薄膜材料研究与产业化发展的进程，以及对与原磊开展深入合作的期待。
南昌大学光伏研究院的姚凯教授讲述了原子层沉积技术在钙钛矿/异质结叠层光伏电池制备过程中的重要作用。
产品发布
同时，研讨会上发布了原磊ANAME Elegant系列设备，是研发型ALD设备市场中唯一能为客户量身定制最大可沉积12寸晶圆的国产设备，突破性地解决了薄膜沉积领域的一些关键问题。该系列采用双腔设计，可从最大程度上保证沉积的稳定性；同时集成了原磊自主研发的传输系统，可实现一键操作，减少人工干预，降低交叉污染。该系列预留了数个升级端口，可同时实现等离子体增强和臭氧工艺，并兼容ALE的开发功能，适用于泛半导体、化合物、特殊记忆体、MEMS和光学器件上的薄膜沉积及刻蚀研究。
值得关注的是，本次会议还发布了原磊首台量产型设备BAT P300 R2R。该设备兼容4/6/8/12寸晶圆，一次可沉积300片4寸晶圆。该设备搭载自动传输和冷却系统，大幅降低了单片人工成本，适用于光电显示以及泛半导体等领域的应用，是目前全球性价比最高的ALD设备。
2022年，原磊还将陆续推出适用于特殊记忆体、特殊工艺、先进封装和先进制程的团簇式ALD设备。同时，原磊还展示了首台纯国产低温选择性外延设备的设计与外观，让业内同仁看到了先进制程设备领域国产替代的希望。
企业参观
1月15日，政府人员和参会企业代表在总经理郑锦的陪同下参观了原磊徐州公司，对原磊的装配、研发和测试中心的设计和硬件条件给予了极高的评价，表达了对原磊未来发展的极大期许和信心。
会议于下午5点顺利闭幕。
至此，本次会议全部结束。感谢本次与会的各界朋友，让我们相聚在下一届研讨会，并期待更多产学研同仁们的关注与支持。中国半导体加油，原磊加油！！！
活动预告| 徐州半导体薄膜沉积技术研讨会
为与业内同行合作交流并加快我国半导体技术发展，原磊纳米将携手徐州经开区于1月14日在徐州东区铂骊酒店举办徐州半导体薄膜沉积技术研讨会。
本次会议将向各位专家和同仁展示目前国产原子层沉积设备的最高技术水准及其在先进制程领域的应用；与此同时，原磊纳米自主研发的纯国产外延设备也即将面世。
产学结合 发展中国半导体产业
技术创新需要研发人员披荆斩棘，迎难直上，才可打破我国半导体受制于人的局面。此次会议邀请到我国在半导体薄膜技术上深耕多年的技术专家解读原子层沉积技术与集成电路的产业结合及新材料研发在半导体领域未来面临的机遇和挑战。同时，半导体行业龙头企业代表也将参与此会，与行业内同行进行深度交流。
面向未来 迈向资本赋能时代
自国家集成电路产业投资基金成立以来，我国投资界在半导体设备领域初露锋芒，成为赋能该领域的主要支撑。此次会议邀请到半导体行业内专业投资机构参会，与现场行业内技术人员交流。
公司简介
原磊纳米创立于2018年，总部位于南京，同时在徐州、新加坡均设有子公司。原磊秉承多年的工艺及半导体设备制造经验，自主设计国产高端半导体薄膜沉积设备，致力于实现我国半导体设备不受制于人的愿景。
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