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GRACE-MX 是南京原磊纳米材料有限公司自主研发的第一代多层平板式原子层薄膜沉积（ALD）系统。采用独特的模块设计，通过对腔体和前驱源进气系统的优化，实现了超高的工艺稳定性，并支持全方位的工艺开发，包括在集成电路、微机电系统、光学、化学和工业领域等的应用，且所开发的材料覆盖众多氧化物（例如SiO2/SnO2/HfO2/Al2O3等），可容纳样品尺寸最大300mm*300mm，针对不同领域的研发，最大可容纳样品尺寸及层数可根据客户需求量身定制。

ELEGANT II-Y系列是原磊材料科技的第二代研发型ALD/ALE设备，拥有完全的自主知识产权，符合CE标准。该系列采用双腔设计，从最大程度上保证了沉积的稳定性和源利用率；同时集成我司自主研发的传输系统，可实现一键操作，减少人工干预，降低污染的可能性。该系列还预留了数个升级端口，可同时实现等离子体增强和臭氧工艺，特别适合泛半导体、化合物、特殊记忆体、MEMS和光学器件上的薄膜沉积。

原磊材料科技的的成熟量产型机台，在Elegant II-Y系列的基础上加入了一个完全自主研发的全自动晶圆装载和传输系统，可使用标准或自定义的 Cassette一次性装载25片6/8寸英寸晶圆，因此非常适合中试或终试应用。装配精密步进马达和传感器的晶圆装载系统可精确实现晶圆定位和计数并配合机械手臂完成精准的晶圆取放。该系列同样采用的双腔体和独立源入口设计，从而保证了源的利用率并减少了交叉污染。数个升级端口可以使等离子体加强和热法工艺在同一个真空腔体中实现，特别适合化合物半导体器件的量产。

原磊纳米科技自主研发的双腔室设计，保证较高的前驱体利用率；
拥有自主知识产权的进气和加热方式，保证高均匀性；
独特的腔体结构，避免不同工艺间的交叉污染，方便维护；
模块化设计，可调整电、气位置，独立进样空间，兼容高洁净度生产空间；
 一次性批量晶圆处理能力，降低生产和设备成本；
可兼容多种尺寸样品，升级方便；
目前全球性价比极高的工业机台。